Китай запустил производство отечественных установок для иммерсионной литографии

Первый экземпляры оборудования планируют поставить крупным китайским производителям микросхем в 2026 году. Это позволит им снизить зависимость от иностранных технологий.

В Китайской Народной Республике стартовало серийное производство первых отечественных литографических сканеров, использующих технологию иммерсионного глубокого ультрафиолета (DUV), рассказали источники The Information. Этот шаг стал критически важной вехой для национальной электронной промышленности, позволяющей местным фабрикам выпускать полупроводники по техпроцессам 7 нанометров и тоньше без использования зарубежного оборудования.

Разработка собственной иммерсионной литографии направлена на преодоление жестких экспортных ограничений и санкций, введенных США и нидерландским гигантом ASML. Теперь крупнейшие китайские чипмейкеры, включая SMIC, получают технологическую независимость и устойчивый инструмент для локализации полного цикла производства современной микроэлектроники.

Эксперты отмечают, что запуск нового оборудования существенно меняет расклад сил на мировом полупроводниковом рынке. Несмотря на высокую сложность освоения продвинутых техпроцессов, доступ к собственной литографии позволит Китаю бесперебойно снабжать внутренний рынок чипами для ИИ, мобильных устройств и автопрома, минимизируя глобальные риски поставки.